详细摘要： 云南某实验室采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220射频磁控溅射沉积方法在不同温度的 Si（100）衬底和石英衬底上制备了富硅 SiNx 薄膜, 用...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-14 在线留言
伯东企业（上海）有限公司
伯东企业（上海）有限公司
详细摘要： 云南某实验室采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFCIP220射频磁控溅射沉积方法在不同温度的 Si（100）衬底和石英衬底上制备了富硅 SiNx 薄膜, 用...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-14 在线留言
详细摘要： 国内某大学采用双 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140作为溅射源分别溅射沉积铌和锡, 再经过高温退火后获得 Nb3Sn 超导薄膜. 用这种方法所获得的超导...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-14 在线留言
详细摘要： 某机构采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380辅助磁控溅射在柔性基材表面沉积多层 N70 隔热膜, 制备出的 N70 隔热膜具有阳光控制功能, 很好...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-14 在线留言
详细摘要： 河南某大学研究室采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380辅助磁控溅射 WS2 薄膜, 目的研究不同沉积压力对磁控溅射 WS2 薄膜微观结构、力学性能...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-14 在线留言
详细摘要： 上海伯东代理有机材料热蒸镀设备针对研究等级的实验室, 推出玻璃对玻璃封装的对位压合机构. 整合涂胶系统 (UV或liquid gate) 和紫外光灯可安装于手套...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-10 在线留言
详细摘要： 热蒸发是物理气相沉积 PVD 中较常用方法, 也是 PVD 的形式之一. 使用电加热的蒸发源可用于沉积大多数的有机和无机薄膜, 其中以电阻式加热法较为常见. 这...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-10 在线留言
详细摘要： 上海伯东代理超高真空磁控溅射镀膜机. 真空度高 5E-10 Torr, 特比适合生长高质量的薄膜或超薄膜, 金属与绝缘材料. 使用德国 Pfeiffer 分子泵...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-10 在线留言
详细摘要： 随着 LCD 面板和制造所需玻璃的尺寸的增加, 制造设备也随着变得更大, 需要越来越大的设备投资. 上海伯东代理磁控溅镀设备 FPD-PVD 针对中小尺寸的需求...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-10 在线留言
详细摘要： 上海伯东代理 E-Beam 电子束蒸发镀膜机 ( 电子蒸镀 ), zui大真空度可达 5E-10 torr, 提供客制化服务.
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-10 在线留言
详细摘要： 上海伯东代理脉冲激光沉积设备 PLD-18L, 它可以与溅射枪, 积液池, 高压流变, 激光束控制相结合, 可以放置 8×1 英寸的样品或 4...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-10 在线留言
详细摘要： 上海伯东代理分子束外延设备 MBE-8 可以成长三寸以下的样品, 样品温度可以加到 900 摄氏度, 如果是两寸以下的样品可以到 1100 摄氏度. 可以装置 ...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-10 在线留言
详细摘要： 上海伯东代理分子束外延设备 MBE-10 可以成长四寸～六寸的样品, 样品温度可以加到 900摄氏度, 如果是两寸以下的样品可以到 1100 摄氏度.可以装置 ...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-10 在线留言
详细摘要： 上海伯东代理超高真空离子刻蚀机 IBE, 我们数十年来一直致力于超高压沉积技术, 帮客户定制设备完成特殊应用, 在客户预算内提供设备和*的设计！
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-10 在线留言
详细摘要： 热沉积式的 ALD 需要较高的制程温度 (传统为 150-350°C). 上海伯东代理原子层沉积设备可以精准的控制 ALD 的制程, 薄膜的厚度和均匀...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-09 在线留言
详细摘要： 上海伯东针对薄膜封装推出电浆辅助式化学气相沉积, 原子层沉积和聚对二甲苯沉积等三种设备, 且使用低温的沉积技术, 分别在 OLED 上堆叠多层薄膜, 广泛应用于...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-09 在线留言
详细摘要： 上海伯东代理的金属热蒸镀设备加装美国 KRI 离子源, 可以精准的控制蒸发速度, 为客户提供品质的复合式薄膜, 且薄膜的厚度和均匀度小于+/- 3％, 广泛应用...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-09 在线留言
详细摘要： 上海伯东代理的连续式多腔磁控溅镀设备可准确控制其溅镀制程条件, 为客户提供更优质的薄膜, 广泛应用于纳米研究技术, 材料研究, 氧化物, 氮化物和金属材料的研究...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-09 在线留言
详细摘要： 上海伯东代理多层膜磁控溅镀设备 Multilayer sputter 拥有基板公自转机构, 搭配美国 KRI 离子源可实现多层膜结构并可以一次批量生产, 广泛应...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-09 在线留言
详细摘要： 上海伯东代理超高真空磁控溅镀设备 UHV Sputter 广泛应用于半导体, 纳米科技, 太阳能电池,科研等行业, 氧化物, 氮化物和金屬材料的研究等.
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-09 在线留言
详细摘要： 上海伯东代理的磁控共溅镀腔提供了准确控制多个磁控溅镀的制程条件, 加装美国 KRi 离子源为客户提供更好质量的复合式薄膜.单片和多片式的loading cham...
产品型号：所在地：上海市更新时间：2023-02-09 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
仪表网 设计制作，未经允许翻录必究 .
请输入账号
请输入密码
请输验证码
