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  • Hitachi聚焦离子束系统 MI4050

MI4050 Hitachi聚焦离子束系统 MI4050

参考价
面议
具体成交价以合同协议为准
  • 型号MI4050
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新时间2023-01-04
  • 厂商性质其他
  • 所在地区
  • 实名认证已认证
  • 产品数量136
  • 人气值699
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简要描述:MI4050是高效率的聚焦离子束设备,它使用了全新的电子光学系统,具有的SIM图像分辨率,并且TEM样品制备效果优异。MI4050广泛用于截面观察、微电路修复、纳米图像制备和纳米沉积等。
Hitachi聚焦离子束系统 MI4050 产品详情

 

特点

 

探针电流90nA,实现快速加工和大面积加工

焊线的截面加工
(加工尺寸 宽:95µm 深:55µm, 加工时间 20min)

   

通过提高极低加速电压(0.5kV~)加工及低加速电压二次电子图像分辨率,实现制备损伤率更低的TEM样品

*1kV以下为选配

 

可观察高分辨率SIM成像(二次电子成像分辨率高达4nm@30kV)

正常部位

弯折部位

铝罐的截面SIM图像

 

采用高精度5轴电动机械优中心马达台

可在样品台移动(包括倾斜)时自动对多个部位进行多种加工。

 

*的操作性能和多种多样的加工模式

● 截面制备程序加工

● TEM/STEM样品程序加工

● 自动连续加工

● TEM样品自动连续精加工软件

● 位图加工

● Vector Scan加工

● 制备纳米精度三维结构样品 其他

悬空纳米导线制作
样品来源:兵库县立大学 松井真二 先生

 

SIM像三维重构分析

等间隔截面加工与截面观察的往复进行,可取的多张截面连续SIM像,并进行3维重构。由此可判断样品中颗粒,孔洞等3维分布状态。

 

半导体封装材料中的填料分布分析示例

 

使用多路气体系统(MGS-II)修复电路

该系统可对应保护膜材料、配线材料、绝缘膜、加速蚀刻等多种用途,照射多种气体。

● 钨沉积气体

● 铂沉积气体

● 绝缘膜制备用沉积气体

● 氟化氙蚀刻气体

● 有机类蚀刻气体

● 碳沉积气体

 

使用XeF2气体实现的大深径比孔加工
以及采用钨沉积引线

 

丰富多样的坐标链接功能

日立*公司的坐标链接功能丰富多样,可确定正确的加工位置和大幅缩短时间。

● 镜图像与SIM像的链接
   双光标功能
   日本第4634134号 美国第7595488号

● 与缺陷检测设备建立坐标链接
   已截断的晶元或芯片也可与缺陷检测设备建立坐标链接。

● CAD联用导航软件

 

 

规格

 
   
项目 内容
样品尺寸 50mm×50mm×12mm(t)以下
样品台 5轴电动机械优中心马达台
加速电压 1~30kV (0.5kV~ 选配)
(0.5~1.0kV : 步长0.1kV)
(1.0~2.0kV : 步长0.2kV)
二次电子分辨率 4nm@30kV
探针电流 90nA
探针电流密度 50A/cm2

 

 

选购件

 

● 4通道供气系统

● 自动连续加工软件

● TEM样品自动加工软件

● 控制器显微镜 其他

*     :可选择其他MI系列的各种选配件。

 

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