详情介绍：
特殊长度
- 可以在紫外可见光（300-800 nm）波长范围内测量椭偏参数。
- 可以进行纳米级的多层薄膜厚度分析
- 通过多通道光谱仪可快速测量椭圆偏振光，可测量400通道或更多通道
- 通过可变反射角测量支持对薄膜的详细分析
- 通过创建光学常数数据库并添加配方注册功能来提高可操作性。
测量项目
- 椭偏参数（tanψ，cosΔ）测量
- 光学常数（n：折射率，k：消光系数）分析
- 膜厚分析
测量目标
- 半导体晶片
栅极氧化物薄膜，氮化物膜
SiO 2，Si x O y，SiN，SiON，SiN x，Al 2 O 3，SiN x O y，多晶硅，ZnSe，BPSG，TiN的
光学常数（波长色散）抵抗 - 化合物半导体
Al x Ga （1-x）作为多层膜，非晶硅 - FPD
取向膜 - 各种新材料
DLC（类金刚石），超导薄膜，磁头薄膜 - 光学薄膜
TiO 2，SiO 2，减反射膜 -
在每个波长下的光刻场n，k评估，例如g线（436 nm），h线（405 nm），i线（365 nm）
- 产品信息
- 原则
- 规格
- 测量例
相关信息
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