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  • R-200 Standard 原子层沉积系统

R-200 Standard R-200 Standard 原子层沉积系统

参考价
面议
具体成交价以合同协议为准
  • 型号R-200Standard
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新时间2024-01-15
  • 厂商性质其他
  • 所在地区上海
  • 实名认证已认证
  • 产品数量167
  • 人气值751
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R-200 Standard 原子层沉积系统 产品详情

标准基板尺寸与类型

50 mm - 200 mm 单晶片

156 mm × 156 mm 太阳能硅晶片

3D 对象

粉末和颗粒

小批量

多孔、通孔和高纵横比(高达 1:2500)


工艺温度

50℃ - 500℃


标准工艺

Al2O3、TiO2、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、ZrO2、TiN、AlN、Pt 或 Ir 等金属


基板装载

使用气动升降机手动装载

带磁性机械臂的负载锁


前驱体

液体、固体、气体、臭氧

多达 6 个源、带 4 个独立入口


其他选项

Picoflow™ 扩散增强剂、RGA、N2 发生器、气体洗涤器、定制设计、惰性装载手套箱兼容性

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