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  • P-300B 原子层沉积系统

P-300B P-300B 原子层沉积系统

参考价
面议
具体成交价以合同协议为准
  • 型号P-300B
  • 品牌
  • 所在地上海
  • 更新时间2024-01-17
  • 厂商性质其他
  • 所在地区上海
  • 实名认证已认证
  • 产品数量167
  • 人气值751
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P-300B 原子层沉积系统 产品详情

衬底尺寸和类型

200mm 晶圆 25片/批次(标准间距)

150mm 晶圆 50片/批次(标准间距)

100mm 晶圆 75片/批次(标准间距)

非标准晶圆类基底(使用定制夹具)

高深宽比基底(深宽比 1 : 2500)


工艺温度

50°C – 500°C


标准工艺

批量生产的平均工艺时间小于 10 秒/循环*

Al2O3,SiO2,Ta2O5,HfO2,ZnO,TiO2,ZrO2,AlN,TiN 及各种金属

同一批次薄膜不均匀性 < 1% 1σ,(Al2O3,WIW,WTW,B2B,49pts,5mm EE)**


基片加载

气动升降

手动装载

线性半自动装载


前驱体

液态,固态,气态,臭氧源

源瓶余量传感器,提供清洗和装源服务

4 根独立的源管线,最多加载 8 个前驱体源

关键词:标准 传感器
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