详细摘要： NikonArF光刻机NSR-S305B出产于1999年，分辨率110nm
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青岛佳鼎分析仪器有限公司
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详细摘要： NikonArF光刻机NSR-S305B出产于1999年，分辨率110nm
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详细摘要： 尼康Nikoni-line光刻机NSR-2205i14E，生产于1997年，分辨率350nm，产能103wph
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详细摘要： 尼康NikonKrF光刻机NSR-2205EX14C生产于1997年，采用248nmKrF曝光光源，分辨率50nm
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详细摘要： 尼康NikonKrF光刻机NSR-S201A生产于1995年，分辨率≦250nm，是一台扫描仪
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详细摘要： 尼康Nikon二手翻新i-line光刻机NSR-4425i生产于1994年，分辨率700nm
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详细摘要： TWINSCANNXT:2000i为高级逻辑和DRAM节点的大批量制造提供出色的覆盖、聚焦控制和交叉匹配
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详细摘要： 主要特点和优势TWINSCANNXT:2050i建立在面向未来的NXT4平台之上，突破了重叠限制，并为浸没式光刻系统提供了的生产力
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详细摘要： ASML二手翻新ARF光刻机NXT:1470采用193nmARF光源，分辨率57nm，产能300wph
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详细摘要： asml二手现货DUV光刻机XT:1460K采用193nmARF光源，分辨率65nm，产能205wph
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详细摘要： ASML二手翻新现货DUV光刻机XT:1060K，采用248nmKRF曝光光源，分辨率80nm，产能205wph
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详细摘要： ASML二手现货DUV光刻机XT:860M，采用248nmKRF光源，分辨率110nm，产能240wph
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详细摘要： ASML二手现货DUV光刻机XT:400L，分辨率350nm，产能230wph
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详细摘要： ASML二手翻新DUV光刻机NXT:1965Ci，采用193nmARF曝光光源，分辨率38nm，产能250wph
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详细摘要： ASML通过将NXT:1950i上的系统吞吐量提高15%–20%来解决光刻成本问题
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详细摘要： SUSSMA300Gen2掩模对准器用于300毫米和200毫米晶圆的高度自动化光刻对准平台
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详细摘要： ASML二手翻新现货ARF光刻机XT:1400E适用于300nm大小的晶圆，产能180wph
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详细摘要： SUSSMA2003代光刻机专为大批量生产而设计，适用于200毫米以下晶圆和方形衬底的自动化加工
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详细摘要： SUSSMicroTec为热门化合物半导体工艺专门设计了一款新型光刻平台：MA100/150eGen2
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详细摘要： MA/BAGen4系列掩膜和键合对准器——实验室及小批量生产用小型光刻机平台苏斯公司的MA/BA4代系列是一代的半自动光刻和键合对准机，并引进了新的平台系统
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