详细摘要： 佳能KrF光刻机FPA-6300ESW采用248nmKRF曝光光源，分辨率130nm，专为12英寸晶圆设计
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-16 在线留言
青岛佳鼎分析仪器有限公司
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详细摘要： FA系列全自动正/双面对准（TSV/BSV）光刻机截止到2012年1月，ABM公司在世界范围售出了500多台光刻机，50多台单独曝光系统
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详细摘要： ASML二手现货ArF光刻机部分信息-193nm-轨道预警信号（APR）：APR启用-避免跟踪输入/输出冲突
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详细摘要： ASML二手翻新现货ArF光刻机AT:1100采用193nmArF曝光光源，针对于300mm晶圆处理的双级光刻平台
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详细摘要： ASMLArF光刻机AT:1200作为其综合成像设施的一部分，SUNYPoly拥有一台TWINSCANAT:1200193nm“干式"扫描仪；（0.85NA）
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详细摘要： PAS2000是一种全自动晶圆步进机，旨在以快速吞吐量和维持正常运行时间为每个晶圆生产尽可能多的芯片，这些因素对于高效生产集成电路至关重要
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详细摘要： ASML二手现货i-line光刻机PAS2500/40适用于6英寸晶圆，采用365nm的i-line曝光光源
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详细摘要： ASMLi-line光刻机PAS5000/40使用0.40NAi-line镜头，像场直径为21.1mm
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详细摘要： PAS5500/100Di线步进设计用于0.4µm的大规模生产，在其可变数值孔径(NA)保持功能性的同时实现的吞吐量
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详细摘要： ASMLARF光刻机PAS5500/1100B支持8"/200mm工艺节点
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详细摘要： PAS5500/1150C193nm步进扫描系统能够实现成本效益的90nmArF批量生产
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详细摘要： ASML推出了一种用于0.35微米成像的新型i-line光刻系统，旨在帮助客户从0.5微米以上的制造技术过渡到更严格的分辨率
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