详细摘要： XT:1250i是ASML发布的TWINSCANXT:1250的浸入式版本
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-14 在线留言
青岛佳鼎分析仪器有限公司
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详细摘要： 随着TWINSCANXT：1400Ei的发布，使用ArF浸入式光刻生产65nm体积现在成为现实
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详细摘要： ASMLHoldingNV(ASML)于2006年末推出了其的TWINSCAN系统，这是一种*的193纳米(nm)曝光系统，具有成像、覆盖和吞吐量改进的特点
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详细摘要： TWINSCANXT:1900GiStep-and-Scan系统是一种高生产率的双级浸没式光刻工具，专为45纳米及以下分辨率的300毫米晶圆批量生产而设计
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详细摘要： TWINSCANXT:400G365nm步进扫描系统是一种超高生产率的双级光刻工具，专为350nm分辨率的300mm晶圆批量生产而设计
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详细摘要： TWINSCANXT:450G365-nm步进式扫描系统是一种高生产率的双级光刻工具，设计用于批量生产分辨率低至220-nm及以上的关键i-line应用
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详细摘要： ASML二手翻新DUV光刻机生产于2006年，可针对于300mm尺寸的晶圆进行处理
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详细摘要： 尼康的这款i-line光刻机NSR2205i12D是欢迎的光刻系统之一
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详细摘要： 佳能canon二手i-line光刻机FPA-5500IZ+，350nm，可对12英寸晶圆进行光刻工艺加工
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-10 在线留言
详细摘要： 佳能二手i-line光刻机CANONFPA3000I4参数：Magnification5XResolution0
产品型号：所在地：更新时间：2023-04-08 在线留言
详细摘要： ASML二手KrF曝光机，光刻机现货由青岛佳鼎分析仪器有限公司提供，除此之外，我们的技术团队还支队对光刻机的技术改造和方案对接
产品型号：所在地：更新时间：2022-05-27 在线留言
详细摘要： Nikon分步投影光刻机NSR-S204B，用于集成电路生产过程中的微光刻工艺，通过投影成像方式，把掩模版上集成电路图形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重复...
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详细摘要： TWINSCANNXT:1970Ci步进扫描系统是一种高生产率的双级浸没式光刻工具，专为在成熟节点批量生产300毫米晶圆而设计
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详细摘要： 这些i-line步进器具有与尼康DUV扫描仪相同的缩小率和视场大小，是曝光次临界层的理想选择，这些层大约占设备20层或更多层的一半
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详细摘要： ASML 步进式扫描DUV光刻机 ArF曝光机 NXT1970Ci/1980Di
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详细摘要： 2001年12月5日，ASML推出了款具有110nm分辨率的KrF(248nm)StepScan300mm双级光刻系统
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详细摘要： 支持多重曝光、实现了超高精度与高产出的ArF液浸式扫描光刻机ArF液浸式扫描光刻机NSR-S622DArF液浸式扫描光刻机NSR-S622D专为20nm以下制程...
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详细摘要： PAS5500/750FDUV步进扫描系统使用成熟的248nmKrF技术，可以实现130nm的大规模生产
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