详细摘要： 尼康NikonArF扫描光刻机NSR-S322F装载了在液浸式装置中取得优秀业绩的StreamlignPlatform，同时进一步提高了重合精度与生产效率
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青岛佳鼎分析仪器有限公司
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详细摘要： 尼康NikonArF扫描光刻机NSR-S322F装载了在液浸式装置中取得优秀业绩的StreamlignPlatform，同时进一步提高了重合精度与生产效率
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详细摘要： 佳能半导体光刻设备，高分辨率/高生产率KrF扫描仪FPA-6300ES6a二手翻新现货优势特点：FPA-6300ES6a扫描仪提供高生产力通过使用新设计的Ret...
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详细摘要： 佳能半导体光刻设备-步进式光刻机FPA-3030EX6，专用于物联网设备的KrF光刻机，分辨率达到150nm，可用电脑进行远程操控
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详细摘要： 佳能i线步进式光刻机FPA-5550iZ2生产效率高，重叠精度高，能够快速完成晶圆的测量和校准，减少了晶圆处理的时间
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详细摘要： 二手现货佳能光刻机FPA-5510iX，可在50mmx50mm的大曝光场上提供0.5um的分辨率在单次曝光中曝光大视野的能力为FPA-5510iX提供了很大的优...
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详细摘要： 佳能二手翻新光刻机FPA-5520iV，用于高级封装的i-line步进器，具有支持高分辨率和大曝光场的可选阵容，现货支持
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详细摘要： 二手翻新佳能i线步进式光刻机FPA-8000iW处理515*510mm的大型面板基板，可实现大封装PLP生产，同时具备1.0μm的分辨率，高效灵活
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详细摘要： 现有二手尼康Nikon翻新现货光刻机NSR-1755i7一台，价格大约$650,000左右，针对4寸/6寸晶圆，分辨率0.6umumLS
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详细摘要： NIKONNSRG8A步进式光刻机用于半导体功率器件制造工艺中的光刻工序，即将图形投影到涂有光刻胶的硅片上的装置，由此使得所需图形区域的光刻胶曝光
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详细摘要： 德国suss公司的ma8光刻机，兼容4、6、8英寸wafer，Led光源，3个独立波长(g、h、i)，可自定义
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详细摘要： 尼康Nikoni-line（365nm波长）光刻机NSR-4425i，解析度≤700nm，视场大小44*44mm，对准精度≤100nm
产品型号：所在地：更新时间：2022-05-26 在线留言您感兴趣的产品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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