上海续波光电技术有限公司
化学束外延系统
化学束外延 (Chemical Beam Epitaxy)融合了分子束外延(MEB)和化学气相沉积(CVD)优点,可以用来生长III-V族半导体薄膜,也可以用来沉积Si, SixGe1-x, FeSi2薄膜,以及氧化物薄膜,包括但不限于LiTaO3, 超导氧化物, TiO2, Al2O3, 掺铒Al2O3, Y2O3, CdO, HfO2, LiNbO3, MgO, ErSiO,
CBE已经显示出非常显著的优越性,例如:
1 可控多元薄膜材料的沉积和掺杂,例如GaAsInP.
2 成分梯度可控:在一个衬底上可以按照预定生长不同成分薄膜材料,从而可以快速研究成分和镀膜材料性能的关系,优化成分对性能的影响。
3 厚度梯度可控:可以按照预定的数学模型/公式,在一个衬底上生长厚度梯度薄膜,实现不同厚度对薄膜性能的影响研究,从而优化厚度对性能的影响。
4 成分和厚度高度均匀性:经过成分和厚度的优化后,可以外延生长成分和厚度高度均匀的样品(对于直径300mm的衬底,不均匀性小于2%.),从而量化生长。
5 可能的生长速率范围大:通常达到10 nm/h至10μm/h。
6 高度可重复性,即使设备已使用数年。
7 可以通过(激光、离子)等辅助方式实现3D等复杂结构薄膜生长。
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商铺:https://www.ybzhan.cn/st52014/
主营产品:磁控溅射仪,电子束蒸发镀膜仪,离子减薄仪,微波等离子化学气相沉积系统(MPCVD),化学束外延系统,电磁场场分布测试仪,等离子处理,刻蚀机,光学软件与材料(金刚石),HFCVD,BSDF/BRED测量仪,电磁场仿真软件
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