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| 产地 | 进口 | 加工定制 | 否 |
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价格电议
KRI 线性霍尔离子源 eH Linear
上海伯东代理美国* KRI 线性
离子源使用 eH 400 做为模组, 能应用于宽范围的衬底, 离子源长度高达 1 米, 通过严格调整模组间的距离可以实现的均匀性和离子流. 由于模组是平行放置, 大大简化了气体, 功率和电子三者的分布. KRI 线性离子源使用标准的端部霍尔模组并使设备的需求简化, 一个低成本, 高电流和低能量的离子束可以很好的使用于 web 涂层, in-line 沉积和圆柱旋转溅射系统.
霍尔离子源 eH 400 尺寸
尺寸: 直径= 3.7“ 高= 3"
放电电压 / 电流: 50-300eV / 5A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体
KRI 霍尔离子源 eH Linear 技术参数
型号 | eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5 |
供电 | DC magnetic confinement |
- 电压 | 40-200V VDC |
- 阳极结构 | 模块化 |
电源控制 | eHL-30010A |
配置 | - |
- 阴极中和器 | Filamentless |
- 离子束发散角度 | > 45° (hwhm) |
- 阳极 | 标准或 Grooved |
- 底座 | 移动或快接法兰 |
- 高度 | 10 cm |
宽度 | 10 cm |
- 长度 | ~ 100cm |
-工艺气体 | Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others |
Model | eHL 200-3 | eHL 200-5 |
Height (nominal) | 2.9" (7.4cm) | 2.9" (7.4cm) |
Width (nominal) | 3.3" (8.4cm) | 3.3" (8.4cm) |
Length (nominal) | Determined by number of modules & application | Determined by number of modules & application |
Cathode/Neutralizer | Yes | Yes |
Anode module | Yes | Yes |
Filamentless | Yes | Yes |
Orientation | Vertical / Horizontal | Vertical / Horizontal |
Process gases | Inert, reactive, & organic | Inert, reactive, & organic |
Power controller | eH Plasma Power Pack | eH Plasma Power Pack |
霍尔离子源 Gridless 提供高电流低能量 end-Hall 系列产品, 包含宽束霍尔离子源和电源控制器, 整体设计, 易于系统集成, 霍尔离子源典型应用: 辅助镀膜 IABD, 镀膜预清洁 ISSP, 离子蚀刻等
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产
考夫曼离子源 Gridded 和霍尔离子源 Gridless. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射沉积 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源 (离子枪) 中国总代理.
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上海伯东 : 罗先生
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