考夫曼射频离子源溅射沉积立方氮化硼薄膜 参考价：300000
立方氮化硼（cBN）由于具有高超的硬度/ 好的化学惰性/ 较好的热稳定性/ 高的热导率/ 在宽波长范围内(约从 200nm 开始) 有很好的透光性/ 可掺杂为 ...
KRi 射频离子源应用于IBE 离子束蚀刻系统 参考价：300000
上海伯东美国 KRi 考夫曼公司大面积射频离子源RFICP 380, RFICP 220 成功应用于 12英寸和 8英寸 IBE离子束蚀刻机, 刻蚀均匀性（1 ...
KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用 参考价：300000
上海伯东美国 KRi 考夫曼品牌 RF 射频离子源, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的宽束离子束, 离子束轰击溅射目标, 溅射的原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜,...
KRI 射频离子源 RFICP 系列 镀膜机 参考价：面议
上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RF...
上海伯东代理射频离子源 RFICP 380 参考价：1920000
上海伯东美国考夫曼离子源 RFICP 380 特性:放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长.2...
上海伯东代理 KRI 射频离子源 RFICP 220 参考价：1212000
上海伯东代理美国* KRI 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源,适用于离子溅镀,离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, 离子源 RFICP 2...
上海伯东代理 KRI 射频离子源 RFICP 140 参考价：1320000
上海伯东代理美国* KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源，非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中...
上海伯东代理 KRI 射频离子源 RFICP 100 参考价：1140000
上海伯东代理美国* KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100 紧凑设计, 适用于离子溅镀和离子蚀刻. 小尺寸设计但是可以输出 400 mA 离子流. 考夫曼型...
上海伯东代理 KRI 射频离子源 RFICP 40 参考价：720000
上海伯东代理美国* KRI 考夫曼型离子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空...
伯东 KRI 考夫曼离子源 Gridded RFICP 系列 参考价：700000
上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源 RFICP 系列,无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长,KRI 射频离...
