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仪表网>产品库>实验仪器>制样/消解设备>离子溅射仪>KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用
  • KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用

KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用

参考价
300000-1920000
具体成交价以合同协议为准
  • 型号
  • 品牌其他品牌
  • 所在地上海市
  • 更新时间2023-03-14
  • 厂商性质代理商
  • 入驻年限1
  • 实名认证已认证
  • 产品数量200
  • 人气值3100
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位于中国上海浦东外高桥保税区的伯东企业(上海)有限公司创建于1995年12月,, 是日本伯东株式会社独资设立的外商投资企业,公司注册资金为200万美元,到目前为止公司从业员工有400多人。
伯东企业(上海)有限公司真空产品事业部()专业销售及维修德国Pfeiffer单双级旋片泵,干泵,罗茨泵,分子泵;应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管);检漏仪,质谱仪,真空系统等等, 维修技术力量雄厚,保证 100 % 拥有标准的德国Pfeiffer原厂测试设备及调整工具和德国Pfeiffer专业培训工程师,多年来致力于真空系统的安装、调试、维修、拆机、保养等,具有优良的专业技能和服务意识,并获得原厂*维修资质证书。利用 Pfeiffer 进口检测设备对维修后的产品做*性能测试。另外公司还代理美国Brooks  CTI Cryopump 冷凝泵/低温泵, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源,HVA 高真空阀门。公司一直坚持品质*、信誉*的原则,为广大客户提供了高品质的产品以及良好的售后服务。到目前为止已先后通过了美国UL安全认证、ISO9001-2000质量体系认证、ISO14001-1996环境体系认证。公司将在今后的发展中秉承以人为本,不断开拓进取的精神,为满足客户的需求努力向专业化、优质化、集团化发展。

为将国外的高科技产品与中国经济和社会的飞速发展紧密结合,为促进国内.贸易的快速发展,伯东企业(上海)有限公司,以高科技推动现代化,以高质量服务全中国, 坚持不懈,奋斗不息。伯东公司是一家专业代理公司,代理上公司的 半导体设备.接插件.电子器件.精密仪器等,公司秉承 改革.创新.求真.发展的基本原则, 精心构建诚信、互动、共赢的价值体系, 为所有的客户提供优质的产品, 同时,提供全伯东集团网络支持下的较早.Z快的信息与Z及时周到的服务,伯东公司愿意与世界各地的客户联手合作,共建一个诚信.发展.共同进步的良好环境.

 

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产地进口 加工定制
上海伯东美国 KRi 考夫曼品牌 RF 射频离子源, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的宽束离子束, 离子束轰击溅射目标, 溅射的原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, IBSD 离子束溅射沉积 和 IBD 离子束沉积是其典型的应用.
KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用 产品详情

上海伯东美国 KRi 考夫曼品牌 RF 射频离子源, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的宽束离子束, 离子束轰击溅射目标, 溅射的原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, IBSD 离子束溅射沉积 和  IBD 离子束沉积是其典型的应用.
KRi 离子源



KRi 离子源在 IBSD 离子束溅射沉积应用
通常安装两个离子源
主要溅射沉积源和二次预清洁 / 离子辅助源
一次气源为惰性气体, 二次气源为惰性或反应性气体
基板远离溅射目标
工艺压力在小于× 10-4 torr

KRi 离子源, 离子束溅射沉积


离子源在离子束溅射沉积工艺过程:
离子源在离子束溅射沉积过程:
 

上海伯东美国 KRi 射频离子源优势
提供致密, 光滑, 无针孔, 耐用的薄膜
远离等离子体: 低基材温度
不需要偏压衬底
溅射任何材料, 不需要射频溅射电源
非常适用于复杂, 精密的多层薄膜制备
清洁, 低污染工艺
沉积原子为坚硬, 耐用的薄膜保留溅射能量
离子能量, 离子电流密度的控制
优良的反应沉积工艺

射频离子源


美国 KRi RFICP 射频离子源技术参数:

型号

RFICP 40

RFICP 100

RFICP 140

RFICP 220

RFICP 380

Discharge 阳极

RF 射频

RF 射频

RF 射频

RF 射频

RF 射频

离子束流

>100 mA

>350 mA

>600 mA

>800 mA

>1500 mA

离子动能

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

100-1200 V

栅极直径

4 cm Φ

10 cm Φ

14 cm Φ

20 cm Φ

30 cm Φ

离子束

聚焦, 平行, 散射


流量

3-10 sccm

5-30 sccm

5-30 sccm

10-40 sccm

15-50 sccm

通气

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

< 0.5m Torr

长度

12.7 cm

23.5 cm

24.6 cm

30 cm

39 cm

直径

13.5 cm

19.1 cm

24.6 cm

41 cm

59 cm

中和器

LFN 2000

 

上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长!  射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和离子蚀刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均匀性, 附着力等. 上海伯东是美国 KRi 离子源中国总代理.

上海伯东同时提供溅射沉积系统所需的涡轮分子泵, 真空规, 高真空插板阀等产品, 协助客户生产研发高质量的真空系统.

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专li. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域.

若您需要进一步的了解 KRi 射频离子源, 请参考以下联络方式
上海伯东: 罗先生    


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