考夫曼射频离子源溅射沉积立方氮化硼薄膜-仪表网

公司介绍主营产品

位于中国上海浦东外高桥保税区的伯东企业（上海）有限公司创建于1995年12月，, 是日本伯东株式会社独资设立的外商投资企业，公司注册资金为200万美元，到目前为止公司从业员工有400多人。
伯东企业（上海）有限公司真空产品事业部()专业销售及维修德国Pfeiffer单双级旋片泵，干泵，罗茨泵，分子泵；应用于各种条件下的真空测量(真空计, 真空规管)；检漏仪，质谱仪，真空系统等等, 维修技术力量雄厚，保证 100 % 拥有标准的德国Pfeiffer原厂测试设备及调整工具和德国Pfeiffer专业培训工程师，多年来致力于真空系统的安装、调试、维修、拆机、保养等，具有优良的专业技能和服务意识，并获得原厂*维修资质证书。利用 Pfeiffer 进口检测设备对维修后的产品做*性能测试。另外公司还代理美国Brooks CTI Cryopump 冷凝泵/低温泵, Polycold 冷冻机和美国KRI 离子源，HVA 高真空阀门。公司一直坚持品质*、信誉*的原则，为广大客户提供了高品质的产品以及良好的售后服务。到目前为止已先后通过了美国UL安全认证、ISO9001－2000质量体系认证、ISO14001－1996环境体系认证。公司将在今后的发展中秉承以人为本，不断开拓进取的精神，为满足客户的需求努力向专业化、优质化、集团化发展。

为将国外的高科技产品与中国经济和社会的飞速发展紧密结合，为促进国内.贸易的快速发展,伯东企业(上海)有限公司,以高科技推动现代化，以高质量服务全中国, 坚持不懈,奋斗不息。伯东公司是一家专业代理公司,代理上公司的半导体设备.接插件.电子器件.精密仪器等,公司秉承改革.创新.求真.发展的基本原则, 精心构建诚信、互动、共赢的价值体系, 为所有的客户提供优质的产品, 同时,提供全伯东集团网络支持下的较早.Z快的信息与Z及时周到的服务,伯东公司愿意与世界各地的客户联手合作,共建一个诚信.发展.共同进步的良好环境.

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产品简介在线询价

产地	进口	加工定制	是

立方氮化硼（cBN）由于具有高超的硬度/ 好的化学惰性/ 较好的热稳定性/ 高的热导率/ 在宽波长范围内(约从 200nm 开始) 有很好的透光性/ 可掺杂为 n 型和 p 型半导体等特点, 在切削工具/ 耐磨材料/ 光学元件表面涂层/ 高温/ 高频/ 大功率/ 抗辐射电子器件/ 电路热沉材料和绝缘涂覆层等方面具有很大的应用潜力.

考夫曼射频离子源溅射沉积立方氮化硼薄膜产品详情

在对立方氮化硼 (cBN) 薄膜研究中, 西北某金属研究所采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 辅助溅射沉积立方氮化硼 (cBN) 薄膜.

伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:

型号	RFICP140
Discharge	RFICP 射频
离子束流	>600 mA
离子动能	100-1200 V
栅极直径	14 cm Φ
离子束	聚焦, 平行, 散射
流量	5-30 sccm
通气	Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力	< 0.5m Torr
长度	24.6 cm
直径	24.6 cm
中和器	LFN 2000

该实验中, 采用的是射频溅射沉积的方法, 沉积基片为硅片, 热压的 hBN 作为靶材, 溅射气体为 Ar 和N2 的混合气体.

磁控溅射是物理气相沉积技术中一种手段比较丰富的方法, 可以通过控制调节镀膜参数, 得到更加致密, 均匀, 结合力出色的膜层, 而且磁控溅射属于干法镀膜, 不存在电镀化学镀中的镀液腐蚀基体和废液污染问题, 从环境保护的角度来看, 磁控溅射较电镀化学镀更加绿色环保.

实验结果:

采用伯东 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 辅助溅射沉积立方氮化硼 (cBN) 薄膜时, 具有沉积的膜层颗粒尺寸小/ 薄膜中立方含量高/ 工艺可控性好等特点.

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 考夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口品牌的代理商.

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:

上海伯东: 罗先生

关键词：真空泵质谱仪真空阀

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