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HVA 高真空闸阀 高真空插板阀 11000 系列 参考价：99999
HVA 高真空闸阀 高真空插板阀 11000 系列, 手动,气动可选, 满足高真空和超高真空应用, 清洁和高密封性保证 HVA 真空闸阀 与前级泵, 涡轮分子泵...
销售维修普发残余气体分析仪 PrismaPro 参考价：150000
上海伯东德国 Pfeiffer 残余气体分析仪(四级杆质谱仪)集高灵敏度, 高稳定性和智能操作于一体, 配置新一代的操作软件 PV MassSpec, 可定量定...
普发 Pfeiffer在线质谱分析仪 OmniStar 参考价：400000
上海伯东德国 Pfeiffer 全新一代气体分析质谱仪, 使用 PV MassSpec 软件进行定性和定量分析. 测试质量数范围为 1 至 100 amu, 1...
Ambrell EKOHEAT 高频感应加热电源-加热器 参考价：面议
上海伯东*的通用性和出色的性能, EKOHEAT 高频感应加热系统, 集成了Ambrell *的通用性能架构 VPA, 配置 eVIEW 软件, 自动化设计能进...
上海伯东代理线性霍尔离子源 eH Linear 参考价：300000
上海伯东代理美国* KRI线性离子源使用 eH 400 做为模组, 能应用于宽范围的衬底, 离子源长度高达 1 米, 通过严格调整模组间的距离可以实现的均匀性和...
上海伯东代理 KRI 霍尔离子源 eH 3000 参考价：600000
上海伯东代理美国* KRI 霍尔离子源 eH 3000 适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上高效, 提供高离子束流的离子源...
上海伯东代理美国进口霍尔离子源 eH 2000 参考价：540000
上海伯东代理美国* KRI 霍尔离子源 eH 2000 是一款更强大的版本, 带有水冷方式, 他具备 eH 1000 所有的性能, 低成本设计提供高离子电流, ...
上海伯东代理 KRI 霍尔离子源 eH 1000 参考价：420000
上海伯东代理美国* KRI 霍尔离子源 eH 1000 高效气体利用, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合中型真空系统. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低...
上海伯东代理美国霍尔离子源 eH 400 参考价：360000
上海伯东代理美国* KRI 霍尔离子源 eH 400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较...
伯东代理KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列 参考价：300000
上海伯东KRI 霍尔离子源 eH 系列紧凑设计, 高电流低能量宽束型离子源, 提供原子等级的细微加工能力, 霍尔离子源 eH 可以有效地以纳米精度来处理薄膜及表...
上海伯东代理考夫曼离子源 KDC 160 参考价：840000
上海伯东代理美国* KRI 考夫曼离子源 KDC 160是目前考夫曼 KDC 系列大,离子能量的栅极离子源, 适用于已知的所有离子源应用, 离子源 KDC 16...
上海伯东代理 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 参考价：624000
上海伯东代理美国* KRI 考夫曼离子源 KDC 100 中型规格栅极离子源, 广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中, 考夫曼离子源 KDC 100 采用双阴极灯...
上海伯东代理 KRI 考夫曼离子源 KDC 40 参考价：480000
上海伯东代理美国* KRI 考夫曼离子源 KDC 40: 小型低成本直流栅极离子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型离子源升级款. 具有更大的栅极, 更坚固...
上海伯东代理 KRI 考夫曼离子源 KDC 10 参考价：420000
上海伯东代理美国* KRI 考夫曼离子源 KDC 10: 考夫曼型离子源 Gridded 系列小型号的离子源. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离...
上海伯东代理美国进口考夫曼离子源 KDC 75 参考价：600000
上海伯东代理美国* KRI 考夫曼离子源 KDC 75:紧凑栅极离子源,离子束直径 14 cm ,可安装在 8“CF法兰. 适用于中小型腔内, 考夫曼离子源 K...
伯东代理KRI考夫曼离子源 Gridded KDC 系列 参考价：400000
上海伯东美国*考夫曼离子源 KDC 系列, 加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 增强设计输出高质量,稳定的电子流.美国 KRI 考夫曼公司新升级 Gr...
上海伯东代理射频离子源 RFICP 380 参考价：1920000
上海伯东美国考夫曼离子源 RFICP 380 特性:放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长.2...
上海伯东代理 KRI 射频离子源 RFICP 220 参考价：1212000
上海伯东代理美国* KRI 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源,适用于离子溅镀,离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, 离子源 RFICP 2...
上海伯东代理 KRI 射频离子源 RFICP 140 参考价：1320000
上海伯东代理美国* KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源，非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中...
上海伯东代理 KRI 射频离子源 RFICP 100 参考价：1140000
上海伯东代理美国* KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100 紧凑设计, 适用于离子溅镀和离子蚀刻. 小尺寸设计但是可以输出 400 mA 离子流. 考夫曼型...
上海伯东代理 KRI 射频离子源 RFICP 40 参考价：720000
上海伯东代理美国* KRI 考夫曼型离子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射频离子源 RFICP 系列尺寸小, 低成本高效离子源. 适用于集成在小型的真空...
伯东 KRI 考夫曼离子源 Gridded RFICP 系列 参考价：700000
上海伯东美国 KRI 考夫曼离子源 RFICP 系列,无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长,KRI 射频离...
等离子表面亲水改性活化,超亲水纳米涂层 表面处理仪 参考价：面议
上海伯东比利时 Europlasma 等离子表面处理设备 CD 1200 PLC, 使用 Nanofics@ 技术, 实现材料表面水接触角 WCA 10...
KRI 射频离子源应用于塑胶光学镜头镀膜 参考价：面议
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. ...
