离子源 RFICP140 溅射沉积立方氮化硼薄膜 参考价：360000
立方氮化硼（cBN）由于具有高超的硬度/ 好的化学惰性/ 较好的热稳定性/ 高的热导率/ 在宽波长范围内(约从 200nm 开始) 有很好的透光性/ 可掺杂为 ...
大面积射频离子源应用于IBE 离子束蚀刻系统 参考价：360000
上海伯东美国 KRi 考夫曼公司大面积射频离子源RFICP 380, RFICP 220 成功应用于 12英寸和 8英寸 IBE离子束蚀刻机, 刻蚀均匀性（1 ...
考夫曼离子源 KDC 系列 镀膜机 参考价：面议
上海伯东美国*考夫曼离子源 KDC 系列, 加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 增强设计输出高质量,稳定的电子流.
霍尔离子源典型应用 IBAD 辅助镀膜 镀膜机 参考价：面议
上海伯东离子源典型应用: 直径 2.2m 蒸镀机, 霍尔离子源用于蒸镀直径 1.5m 天文望远镜镜片全反射膜, 仅需安装1台 EH 3000 HC 霍尔离子源,...
霍尔离子源典型应用 IBE 离子刻蚀 镀膜机 参考价：面议
上海伯东离子源典型应用: 安装在小型离子蚀刻机中的 KRI 霍尔离子源 EH 400 HC, 对 2英寸硅芯片蚀刻,霍尔离子源典型应用 IBE 离子刻蚀
射频离子源典型应用 IBE 离子蚀刻 镀膜机 参考价：面议
上海伯东离子源典型应用: 安装在离子蚀刻机中的 KRI 射频离子源, 对应用于半导体后端的6寸晶圆进行刻蚀
射频离子源典型应用 LED-DBR 辅助镀膜 镀膜机 参考价：面议
上海伯东离子源典型应用: 射频离子源 RFICP 325 安装在 1650 mm 蒸镀机中, 实现离子辅助镀膜 IBAD 及预清洁 Pre-clean, 完成 ...
KRI 射频离子源 RFICP 系列 镀膜机 参考价：面议
上海伯东美国 KRI 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频源 RF...
上海伯东代理线性霍尔离子源 eH Linear 参考价：300000
上海伯东代理美国* KRI线性离子源使用 eH 400 做为模组, 能应用于宽范围的衬底, 离子源长度高达 1 米, 通过严格调整模组间的距离可以实现的均匀性和...
上海伯东代理 KRI 霍尔离子源 eH 3000 参考价：600000
上海伯东代理美国* KRI 霍尔离子源 eH 3000 适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上高效, 提供高离子束流的离子源...
上海伯东代理美国进口霍尔离子源 eH 2000 参考价：540000
上海伯东代理美国* KRI 霍尔离子源 eH 2000 是一款更强大的版本, 带有水冷方式, 他具备 eH 1000 所有的性能, 低成本设计提供高离子电流, ...
上海伯东代理 KRI 霍尔离子源 eH 1000 参考价：420000
上海伯东代理美国* KRI 霍尔离子源 eH 1000 高效气体利用, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合中型真空系统. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低...
上海伯东代理美国霍尔离子源 eH 400 参考价：360000
上海伯东代理美国* KRI 霍尔离子源 eH 400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较...
伯东代理KRI 霍尔离子源 Gridless eH 系列 参考价：300000
上海伯东KRI 霍尔离子源 eH 系列紧凑设计, 高电流低能量宽束型离子源, 提供原子等级的细微加工能力, 霍尔离子源 eH 可以有效地以纳米精度来处理薄膜及表...
上海伯东代理考夫曼离子源 KDC 160 参考价：840000
上海伯东代理美国* KRI 考夫曼离子源 KDC 160是目前考夫曼 KDC 系列大,离子能量的栅极离子源, 适用于已知的所有离子源应用, 离子源 KDC 16...
上海伯东代理 KRI 考夫曼离子源 KDC 100 参考价：624000
上海伯东代理美国* KRI 考夫曼离子源 KDC 100 中型规格栅极离子源, 广泛加装在薄膜沉积大批量生产设备中, 考夫曼离子源 KDC 100 采用双阴极灯...
上海伯东代理 KRI 考夫曼离子源 KDC 40 参考价：480000
上海伯东代理美国* KRI 考夫曼离子源 KDC 40: 小型低成本直流栅极离子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型离子源升级款. 具有更大的栅极, 更坚固...
上海伯东代理 KRI 考夫曼离子源 KDC 10 参考价：420000
上海伯东代理美国* KRI 考夫曼离子源 KDC 10: 考夫曼型离子源 Gridded 系列小型号的离子源. 适用于集成在小型的真空设备中, 例如预清洗, 离...
上海伯东代理美国进口考夫曼离子源 KDC 75 参考价：600000
上海伯东代理美国* KRI 考夫曼离子源 KDC 75:紧凑栅极离子源,离子束直径 14 cm ,可安装在 8“CF法兰. 适用于中小型腔内, 考夫曼离子源 K...
伯东代理KRI考夫曼离子源 Gridded KDC 系列 参考价：400000
上海伯东美国*考夫曼离子源 KDC 系列, 加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 增强设计输出高质量,稳定的电子流.美国 KRI 考夫曼公司新升级 Gr...
上海伯东代理射频离子源 RFICP 380 参考价：1920000
上海伯东美国考夫曼离子源 RFICP 380 特性:放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长.2...
上海伯东代理 KRI 射频离子源 RFICP 220 参考价：1212000
上海伯东代理美国* KRI 射频离子源 RFICP 220 高能量栅极离子源,适用于离子溅镀,离子沉积和离子蚀刻. 在离子束溅射工艺中, 离子源 RFICP 2...
上海伯东代理 KRI 射频离子源 RFICP 140 参考价：1320000
上海伯东代理美国* KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源，非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中...
上海伯东代理 KRI 射频离子源 RFICP 100 参考价：1140000
上海伯东代理美国* KRI 考夫曼型离子源 RFICP 100 紧凑设计, 适用于离子溅镀和离子蚀刻. 小尺寸设计但是可以输出 400 mA 离子流. 考夫曼型...
